第203章 光刻胶做出来（1/2）

请关闭浏览器的阅读/畅读/小说模式并且关闭广告屏蔽过滤功能，避免出现内容无法显示或者段落错乱。

除了核心的分辨率，感光敏感度也是关键指标。

它不仅决定了曝光光源的能量利用效率，更直接影响着芯片的量产效率和制造成本。

如今国内的研发团队，还在攻克适配二代光刻机的光刻胶技术。

吴祖现在要制备的，是直接适配第四代浸没式光刻机的高端ArF光刻胶，技术代差足足二十年。

经过风淋、去静电、喷淋等一系列严格的洁净流程，吴祖穿着全套无尘服，走进了百级洁净车间。

前段时间，他已经带着李柱完成了所有前期准备，成膜树脂、光引发剂、单体、助剂等各类反应原料都已制备完成。

剩下最关键的一步，就是用超高速离心机完成高纯度分离提纯，去除所有会影响光刻精度的微量杂质。

他小心翼翼地将预处理好的胶液样品送入离心机腔体，精准设置好转速、温度、时间等各项参数，按下了启动按钮。

轻微的嗡鸣声瞬间在洁净车间响起，离心机开始高速运转。

接下来，吴祖每隔固定时间，就会从离心机里取出微量样品，进行成分和纯度检测，实时调整工艺参数。

李柱寸步不离地跟在旁边，手里拿着个小本子，像个认真听课的小学生，记录着每一个操作步骤、每一项参数细节，生怕漏过一个字。

看着吴祖眼底掩不住的疲惫，还时不时打个哈欠，李柱连忙开口道：

“阿祖，要不这个环节交给我盯着，你去旁边休息室睡一会儿，熬了好几个通宵，身体扛不住的。”

吴祖想了想，没有拒绝，把操作要点和注意事项跟他交代了三遍，这才放心离开了洁净车间。

几天后。

实验室深处的暗红色防爆灯下，吴祖戴着无尘手套，小心翼翼地拧开了一个特制的避光棕色试剂瓶。

瓶内，是均匀透亮的琥珀色粘稠液体，在昏暗的灯光下泛着温润的光泽。

看着瓶中终于制备完成的样品，吴祖的嘴角忍不住向上扬起。

“20ArF浸没式光刻胶样品，成了！”

听到这句话，旁边的李柱瞬间激动得差点跳起来。

“阿祖，你太牛了！真的做出来了！这就是你说的能适配第四代光刻机的高端光刻胶？”

“没错。”

吴祖点了点头：“不过现在有个问题，我们没办法对它的性能做完整的定量评估。”

虽然他心里清楚，按照系统给出的成熟技术路线制备的这款光刻胶，性能绝对不会有半分偏差。

但拿不出完整的测试报告，就没办法向外界证明它的真实性能，更没办法实现量产应用。

光刻胶的性能测试，绝不是靠肉眼观察和经验判断就能完成的。

它需要一整套精密且造价昂贵的专业测试设备。

首先需要步进式光刻机完成曝光测试，再用高分辨率扫描电子显微镜，精准测量曝光后图形的分辨率、线边缘粗糙度、侧壁形貌等核心性能参数。

这些设备，单台动辄数千万甚至上亿，几乎全被国外巨头垄断，对龙国实施了最严格的禁运政策。

就算是燕京半导体研究所，手里也只有几台老旧设备，最高测试精度只能到200纳米，根本测不出这款20光刻胶的极限性能。

本章未完，点击下一页继续阅读。