第201章 从光刻胶开始（1/2）

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思来想去，刘勇忽然眼睛一亮，开口道：

“要不……就先从光刻胶开始吧。”

“它虽然不是光刻机本体的组成部分，却是芯片制造环节最核心的原材料之一，也是国内各大研究所攻关了很多年，始终没能突破的卡脖子项目。”

在场的专家们都纷纷点头，觉得这个提议再合适不过。

光刻胶是芯片制造中不可或缺的核心材料，通过曝光，显影工艺，将掩膜版上的电路图形精准转移到硅片上，为后续的刻蚀，离子注入工艺提供防护屏障。

说白了，没有合格的光刻胶，就算有了光刻机，也根本造不出芯片。

如今高端光刻胶的核心技术，几乎全被国外企业垄断，国内投入了巨额的研发资金，折腾了十几年，却始终没能拿出能对标国际的成熟产品。

而刘勇所在的团队，恰好就是国内主攻光刻胶研发的核心团队，他提出这个题目，自然也是想亲眼看看，吴祖到底是不是真的有能力。

众人一拍即合，都等着吴祖的答复。

李宗贵转头看向他，道：“怎么样？光刻胶这个切入点，你觉得可以吗？”

吴祖喝光瓶里最后一点AD钙奶，随口应道：“可以，完全没问题。”

……

会议室的门被推开，一众半导体领域的专家走了出来，每个人的脸上都带着期待。

毕竟，这个九岁的孩子，已经创造了太多次颠覆所有人认知的奇迹。

他们打心底里愿意相信，这一次吴祖依旧能兑现承诺。

这件事关乎着龙国能不能顺利跨过高端芯片的门槛，真正迈入电子信息化的全新时代。

……

燕京半导体研究所光刻胶实验办公室。

众人围坐在工位上，脑子里还在反复回放着刚才会议室里发生的一幕幕。

刘勇往椅背上一靠，手指无意识地敲着桌面，憋了半天还是忍不住开口道：

“哎，说句实在的，你们觉得……吴祖他真能把高端光刻胶给搞出来？”

此言一出，办公室里所有人的目光瞬间都聚了过来。

“难，简直是难于上青天！”

一位头发花白的专家摘下眼镜，用绒布反复擦着镜片，无奈说道：

“别的先不说，光刻胶的分辨率，就是一道迈不过去的坎。

“现在先进制程要求线宽低至两百多纳米，对光刻胶的图形保真度要求已经到了变态的地步！”

“就这一点，国内哪个研究所能做到？这东西靠的不是灵光一闪，是海量的实验试错，是几十年的工艺沉淀！”

“没错！光刻胶的核心，本身就是材料学的天坑。”

另一位专攻高分子材料的专家跟着点头。

“国外那几家行业巨头，哪个不是砸了几十上百亿美金，耗了三四十年，才筑起了密不透风的专利壁垒和成熟工艺？”

“这东西真不是一朝一夕就能突破的。咱们国内前前后后折腾了快十年，连人家十年前低端产品的门槛都没摸到。”

“他一个九岁的孩子，恐怕连光刻胶的核心成膜树脂、光引发剂该怎么选材，都未必能搞明白！”

众人纷纷附和，从各自的专业角度拆解着研发难度，都认为这是一块需要庞大研发团队、雄厚资金支持和长期技术周期才有可能啃下来的硬骨头。

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